工艺流程
单色、渐变色：抛光/喷砂/拉丝***除油***阳极氧化***中和***染色***封孔***烘干
双色：抛光/喷砂/拉丝***除油***遮蔽***阳极氧化1***阳极氧化2 ***封孔***烘干
抛光/喷砂/拉丝***除油***阳极氧化1 ***镭雕***阳极氧化2 ***封孔***烘干
技术特点
1、提升强度，
2、实现除白色外任何颜色。
3、实现无镍封孔，满足欧、美等对无镍的要求。
真空镀膜设备使用步骤
1电控柜的操作
1)开水泵、气源
2)开总电源
3)开维持泵、真空计电源，真空计档位置v1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。
4)开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到v2位置，抽到小于2为止，pvd真空镀膜机厂，约需20分钟。
5)观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，pvd真空镀膜炉，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，pvd真空镀膜机价格，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子电源。
真空蒸发镀膜
真空蒸发镀膜是指在真空条件下，通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。被蒸发的物质被称为蒸镀材料。蒸发镀膜早由 m.法拉第在 1857年提出，经过一百多年的发展，现已成为主流镀膜技术之一。
真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸---使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。
真空蒸发镀膜技术具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点，杭州pvd真空镀膜机，是应用广泛的镀膜技术，主要应用于光学元器件、led、平板显示和半导体分立器的镀膜。真空镀膜材料按照化学成分主要可以分为金属/非金属颗粒蒸发料，氧化物蒸发料，---物蒸发料等。
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