金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
pvd真空镀膜机与您分享pvd镀膜工艺溅射镀膜(sputtering)
高能量的粒子撞击靶材时靶中的分子或原子被撞击出来的现象，此原理是以靶为阴，以基板为阳，在10-2torr左右的ar气氛中加以高电压时阴附近的ar气离子化后变成ar+，与阴相撞击，被ar+离子所撞击飞出的分子或原子撞上基板而堆积形成薄膜。
溅射应用范围广，利用其薄膜的机能则是以耐磨耗性、耐蚀性、耐热性抗静电或装饰性为目的，pvd真空镀膜炉，但是因附著力的问题少见于刀具的应用。适用于大宗连续性镀膜，例如手机零件等。
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pvd真空镀膜机与您分享pvd真空离子镀膜与传统电镀之间的不同
真空镀膜厚度属于微米级，1μm 相当于传统电镀一条的十分之一，因此经过镀膜作业以后，并不会影响工件的精度；传统电镀的批覆方式是以一种包覆的方式在外形成一层电镀层，并无高度密著性可言。
pvd 真空离子镀膜与电镀方式之膜形差异一般湿式镀层所作之镀膜会在表面覆盖成一个薄膜层 ，不论底材之原先形状为何，表面所呈现出来的薄膜层都会趋于平坦。pvd 镀层会依底材形状平均在上方形成一个镀膜层，依底材高低形状有所不同，经镀膜后的高低形状也是依照原先底材之态样。
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