金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
真空镀膜与您分享
真空蒸镀原理
(1) 真空蒸镀是在真空条件下,将镀料加热并蒸发,使大量的原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面(升华)。
(2)气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。
(3)镀料原子、分子沉积在基体表面形成薄膜。
蒸发源
将镀料加热到蒸发温度并使之气化,这种加热装置称为蒸发源。的蒸发源是电阻蒸发源和电子束蒸发源,特殊用途的蒸发源有高频感应加热、电弧加热、辐射加热、激光加热蒸发源等。
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真空镀膜与您分享物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用,但30年迅速发展,成为一门---广阔应用前景的新技术,并向着型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今,在钟表行业,金属真空镀膜,尤其是手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。
真空蒸镀基本原理是在真空条件下,使金属、金属合金或化合物蒸发,上虞真空镀膜,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,铝合金真空镀膜,高频感应加热,电子束、激光束、离子束高能轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历,真空镀膜市场,真空蒸镀是pvd法中使用早的技术。
pvd:物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有---的性能。 pvd基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
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