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pvd真空镀膜机与您分享pvd镀膜膜层的特点，采用pvd镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、---的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

pvd镀膜能够镀出的膜层种类，pvd镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)，氮化物膜(tin、zrn、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn)，以及氧化物膜(如tio等)。pvd镀膜膜层的厚度—pvd镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。

离子镀基本原理是在真空条件下，pvd真空镀膜机厂家，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在---负偏压的作用下，pvd真空镀膜机多少钱，离子沉积于基体表面形成薄膜。

物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：

(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。

(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。

(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。