抛光
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使pvd涂层产品表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法,是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对pvd涂层产品表面进行的修饰加工。抛光处理以得到光滑表面或镜面光泽为目的,有时也用以消除光泽。通常以抛光轮作为抛光工具。
脱气
脱气是将已经超声清洗的待镀产品在真空环境下通过加热、保温、冷却的方式使待镀产品盲孔、缝隙、焊接处,以及产品表面等部位没有被超声清洗干净的杂质、油污和易挥发的材料在高温、真空条件下挥发出来,---产品在镀膜时不会被杂质气体氧化、导致涂掉膜甚至污染炉腔的一种深层次的清洁方式。
金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
真空镀膜与您分享被pvd涂层工件表面要求:
1.工件表面不能有锈迹、腐蚀、油漆、胶水、胶料;
2.工件表面必须是光亮并且未经表面改性处理的(如化学电镀、氮化、发黑、td或者cvd 等);
3.工件表面粗糙度要求:一般的刀具、模具和零配件在满足使用需求的前提下越光滑越好,成型面 ra<0.2um为宜;
4.工件不能是组装件,真空镀膜生产厂家,组装件必须拆开后分别涂层;螺丝、堵头等必须完全拆除;
5.工件有焊接处理,表面需清洁,不能氧化层或埋孔,真空镀膜,并且需要提前---,以评估是否适合涂层;
6.pvd涂层前,提供工件需要涂层区域和涂层位置的示意图或者图纸(包括哪些位置必须涂层,哪些位置不能涂层,哪些位置无所谓)。
离子镀基本原理是在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在---负偏压的作用下,真空镀膜工厂,离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤:
(1)镀料的气化:即使镀料蒸发,升华或被溅射,也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后,产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。
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