pvd镀膜工艺及参数-金百辰-丽水pvd镀膜

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pvd镀膜与您分享高频感应加热蒸发

高频感应加热蒸发是将装有镀膜材料的坩埚放置在高频螺旋线圈的中央，使镀膜材料在高频电磁场的感应下产生---的涡流电流和磁滞效应，致使膜层升温，pvd镀膜工艺及参数，直至气化蒸发。蒸发源一般有水冷高频线圈和石墨或者陶瓷(氧---、氧化铝、氧化硼等)坩埚组成。高频电源采用的频率为1万至几十万赫兹，输入功率为几至几百千瓦，膜材体积越小，感应频率越高。感应线圈频率通常用水冷铜管制造。高频感应加热蒸发方法的缺点是不易对输入功率进行微调，它有下述优点:

1、蒸发速率大:

2、蒸发源温度均匀稳定，不易产生镀料液滴飞溅的现象，pvd镀膜原理，也可以避免沉积在薄膜上产生现象:

3、蒸发源一次装料，温度控制比较容易，操作简单。