离子镀基本原理是在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,杭州真空镀膜,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在---负偏压的作用下,离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤:
(1)镀料的气化:即使镀料蒸发,真空镀膜价格,升华或被溅射,也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后,产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。
工艺流程
单色、渐变色:抛光/喷砂/拉丝***除油***阳极氧化***中和***染色***封孔***烘干
双色:抛光/喷砂/拉丝***除油***遮蔽***阳极氧化1***阳极氧化2 ***封孔***烘干
抛光/喷砂/拉丝***除油***阳极氧化1 ***镭雕***阳极氧化2 ***封孔***烘干
技术特点
1、提升强度,
2、实现除白色外任何颜色。
3、实现无镍封孔,满足欧、美等对无镍的要求。
真空镀膜设备使用步骤
1电控柜的操作
1)开水泵、气源
2)开总电源
3)开维持泵、真空计电源,真空计档位置v1位置,不锈钢真空镀膜,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。
4)开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到v2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。
5)观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,真空装饰镀膜,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子电源。
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