真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制zrn膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源,轮毂镀膜技术,以及脉冲偏压电源。
(1)抽真空
5 x 10-3~6.6 x 10-13pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100~150℃。
(2)轰击清洗
真空度:通---真空度保持在2~3pa。轰击电压:800~1000v,诸暨轮毂镀膜,脉冲占空比20%。轰击时间:10min。
(3)手套箱
沉积锆底层
真空度:通入气,真空度保持在s x l0-1pa。靶电压:400—550v,靶功率15 n 30w/crrr2。脉冲偏压:450~500v,占空比20 %。手套箱时间:5~10min。
镀zrn膜
真空度:通入氮气,真空度保持在(3~5) x 10-1pa。靶电压:400~550v,靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压:150~200v,占空比80 %。手套箱时间:20~30min。
由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低,不容易进行反应沉积,获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化,扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源,柱状弧源还是辅助手套箱源。
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轮毂镀膜与您分享pvd镀膜加工
pvd镀膜加工在影响产品的五大因素〔操作者、设备、材料、工艺方法及生产环境)中,人是位的。pvd镀膜故障的发生都与操作工技能和工作责任心有关。pvd镀膜生产管理人员对操作工指导和---不力,这些在pvd镀膜企业较普遍存在的状况,pvd镀膜使得故障在所难免。要减少pvd镀膜生产故障,提高pvd镀膜从业人员的技能和工作责任心是十分重要的。
当今镀膜行业使用的制作方式主要有两种,一种是化学气相沉积,也就是化学镀膜(cvd),一种是物理气相沉积,也就是真空镀膜(pvd)。化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学镀膜的过程中,容易产生溶液污染,如果镀件表层杂质多,镀出来的效果不好。化学镀膜需要的反应温度---,一般要控制在 1000℃左右,但很多基体材料是无法经受如此高温,性能变坏。如在硬质合金刀具上蒸镀 tin,基体扩散出来的碳会与溶液发生反应而形成脱碳层,该层韧性差,抗弯强度低,造成刀具使用寿命缩短。而 pvd 技术解决了化学镀膜中的溶液污染问题,铝合金轮毂镀膜,不会产生有毒或有污染的物质,镀出来的膜层硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性好,性能更稳定,可制备多姿多彩的膜层,镀制硬质合金刀具可使其寿命提高 2-10 倍。
因此,从行业的技术发展趋势来看,等离子处理、真空法将成为未来行业技术发展的方向。
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