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真空镀膜与您分享磁场不均匀的影响
由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的,也不是处处正交的,都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的,至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响,也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的,有效方法就是配合实验具体分析。是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。
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真空镀膜与您分享pvd镀膜工艺离子镀(ion plating)
pvd镀膜涂层工艺中的为离子镀膜方式;此方法是利用电弧撞击靶材,使靶材原子被激发出来,纳米真空镀膜,与反应性气体反应,形成化合物沉积于工件表面的一种技术。炉内运行---真空后,通入惰性气体,加偏压造成离子(ar+),真空装饰镀膜,及带负电的电子(e-),带正电的离子会撞向通入偏压为负极的基板底材,来清洁工件表面;之后再通入反应气体,在靶材和基板底材间产生电浆,进行镀膜作业。此一方式成膜速度快、密著性较佳,多用于切削刀具镀膜涂层处理。
大部分企业都采用的阴极电弧法(cathode arc)进行镀膜作业。与其他方式相比,此种方式拥有较多的离化率、均匀的附着性,大多被应用在金属的硬质镀膜上,---是要求耐磨耗的物件。
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真空镀膜与您分享高频感应加热蒸发
高频感应加热蒸发是将装有镀膜材料的坩埚放置在高频螺旋线圈的中央,使镀膜材料在高频电磁场的感应下产生---的涡流电流和磁滞效应,致使膜层升温,直至气化蒸发。蒸发源一般有水冷高频线圈和石墨或者陶瓷(氧---、氧化铝、氧化硼等)坩埚组成。高频电源采用的频率为1万至几十万赫兹,输入功率为几至几百千瓦,真空镀膜厂家,膜材体积越小,感应频率越高。感应线圈频率通常用水冷铜管制造。高频感应加热蒸发方法的缺点是不易对输入功率进行微调,它有下述优点:
1、蒸发速率大:
2、蒸发源温度均匀稳定,真空镀膜,不易产生镀料液滴飞溅的现象,也可以避免沉积在薄膜上产生现象:
3、蒸发源一次装料,温度控制比较容易,操作简单。
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